半導體設備板塊沖高走低，“再全球化”挑戰重重

7月3日，半導體設備板塊在開盤經歷短暫沖高之后走低。截至全天收盤，半導體設備指數（884229）報85313.456點，跌幅0.74%。個股方面，北方華創（002371.SZ）報收303.92元/股，跌幅4.32%；拓荊科技（688072.SH）報收420.00元/股，跌幅1.40%；中微公司（688012.SH）報收153.20元/股，跌幅2.08%；耐科裝備(688419.SH)報收42.00元/股，跌幅1.36%。

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消息面上，6月30日荷蘭政府頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。根據新出口管制條例規定，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCANNXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節。

ASML30日回應第一財經記者稱，正如公司在今年三月發布的消息中所述，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統。

商務部30日針對這一事件評價表示，荷方應從維護國際經貿規則及中荷經貿合作大局出發，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業正常合作和發展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業和雙方共同利益，維護全球半導體產業鏈供應鏈穩定。

記者了解到，荷蘭政府出口限制條例主要針對的是ASML型號為TWINSCANNXT:2000i及后續推出的TWINSCANNXT:2050i產品，兩者均屬于DUV系列ArF光刻機產品。官方公布的性能參數顯示，上述兩款光刻機產品的分辨率為≤38nm，主要面向制程節點為7-28nm。

目前市場上的光刻機按照迭代的先后順序主要分為g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代，其中，g-line已逐漸被市場淘汰，第五代EUV光刻機的工藝節點目前是最優的，能夠達到7nm以下。

在EUV光刻機市場方面，ASML目前處于絕對的壟斷地位。光大證券的研報顯示，ASML占有EUV光刻機100%的市場份額。據ASML財報數據，2022年EUV光刻機均價高達1.76億歐元每臺，遠高于其他類型的光刻機。不過早在2019年，荷蘭政府就限制了的EUV光刻機產品的出口。在7-28nm制程段，ASML目前也僅有TWINSCANNXT:1980Di這一較老的型號產品在出口管制條例之外。

日本政府本月也出臺了類似的半導體制造設備出口管制措施，相關條例將于7月23日起實施。該措施將加強對23種芯片制造設備的出口管制，范圍包括清洗、薄膜沉積、熱處理、蝕刻、測試等。

不過，在上周末召開的SEMICON China 2023展會期間，記者發現了一個小細節。盡管日本政府已經頒布了相關政策，但無論是尼康（Nikon）半導體還是佳能（Canon）半導體，均在自己的展臺上展示了自己最先進的產品。

尼康半導體公司的內部人士對記者表示，目前政策還沒有落地，尼康作為日本的半導體企業，不得不遵守日本政府的規定，政策落地后，公司將會積極研究，在政策劃定的范圍之內和中國市場展開合作。

光大證券的數據顯示，近年來，ASML、 Nikon、 Canon 三大企業光刻機在全球的銷量穩步提升， 從 2015 年的 281 臺增長至 2022 年的 551 臺， 復合年均增長率達 10.10%， 銷售收入由 2019 年的 945 億元增長至 2022 年的 1318 億元， 復合年均增長率達 11.73%， 其中 ASML 占據銷量的 8 成以上。

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